佘　錦華 氏
（東京工科大学工学部機械工学科　教授／2021年IEEE Fellow

「プロセス制御の高性能を目指して―知能制御からアクティブ外乱抑制まで」

プロセス制御において，プロセスにおける無駄時間，パラメータの変動や各種外乱は，制御性能に大きく影響している。
プロセス制御の高性能を実現するために，われわれは，従来からエキスパート制御，インテリジェント制御，予測制御や，アクティブ外乱推定などの制御手法を適用してきた。
特に，制御性能に影響する要因を制御入力端の信号としてまとめて推定し，アクティブに抑えることが重要だと認識し，等価入力外乱手法を提案した。
　本講演は，我々がいままで行ってきた研究を整理して説明し，特に，等価入力外乱手法を用いたシステム構成を示し，実例を用いてその有効性を示す。

2025年12月19日（金） 15:00～16:30

機械振興会館 6階　6-67 ★Web方式(Zoom利用予定）も併催にて開催いたします。 オンラインでの 参加方法はお申込みいただいた皆様に12月18日までにお知らせいたします。
〒105-0011 東京都港区芝公園３丁目５−８
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（主催） IEEE 東京支部 TPC (Technical Program Committee)
IEEE 東京支部 LMAG（Life Members Affinity Group） （共催）

会場：40名、オンライン参加：　200名 (Zoom利用予定）会場、オンラインともに定員を超えた場合は先着順）

無料

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2025年12月17日（水）締切

メールアドレス: tokyosec@ieee-jp.org

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