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EDS Japan Chapter 会員各位
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EDS Kansai Chapter 会員各位
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SSCS Japan Chapter 会員各位
IEEE
SSCS Kansai Chapter 会員各位
IEEE Electron Devices Society Japan Chapter
Chair 小柳 光正
Vice Chair 木村 紳一郎
【2009
IEEE International Interconnect Technology Conferenceのご案内】
2009IITCがIEEE
Electron Devices Societyおよび応用物理学会主催により2009年6月
1日から3日間北海道札幌市のロイトン札幌ホテルにて開催されます(ショートコース
が5月31日にございます)。
本国際会議は、銅・低誘電率(Cu/Low-k)多層配線構造に関する学会として、例年サン
フランシスコで開催されておりましたが、今般、アジア・欧州・北米間を往来しての
開催となり、初の北米外開催地として札幌市が選ばれました。これには、配線技術に
対する日本の関心の高さが評価された背景があり、また学会に専念できる環境の良さ
が評価されたものでもあります。
会議の対象分野はULSI銅・低誘電率多層配線構造に限らず、材料・要素プロセス技
術、
メモリ・ロジック向けプロセスインテグレーション技術、プロセス制御・モデリング
技術、信頼性技術、TSV及び3Dインテグレーション技術、配線システム技術、パッ
ケー
ジ技術、新規材料・新規コンセプト技術などをカバーしています。
今年の基調講演にはパナソニック株式会社・戦略半導体開発センター所長の藤川悟氏
をお招きし、微細化では22nmに向けたCuコンタクトや、機能の多様化の端緒となるメ
モリ／ロジックの3次元実装など、招待講演12件を含め、総計80件の講演を予定して
おります。また、本会議前日の5月31日には配線技術分野に関するショートコースも
開催致します。
初の日本開催にあたり、大学、研究機関、産業界の研究者、技術者の方々に多く参加
いただき、今日の配線技術は勿論のこと、明日の次世代新規配線技術に関して、理論
と実験の両面から活発に議論を行なう場としたいと考えております。
会議詳細は以下のHPに掲載しております。
http://www.his.com/~iitc/info.html
どうぞ、奮ってご参加ください。
■主催：IEEE
Electron Devices Society・(社)応用物理学会
■日時：2009年6月1日(月)-3日(水) (ショートコース5月31日)
■場所：ロイトン札幌ホテル
〒060-0001
北海道札幌市中央区北1条西11-1
TEL:
011-271-2711 FAX: 011-207-3344
http://www.daiwaresort.co.jp/royton/index.html
■問合せ先：IITC
c/o Widerkehr & Associates
19803
Laurel Valley Place, Montgomery Village, MD 20886 USA
TEL:
+1-301-527-0900 x104 FAX:
+1-301-527-0994
E-mail:
iitc@his.com
■国内問い合わせ先：
国内運営実行委員会
委員長：中村 友二 (株)富士通研究所
TEL:
046-250-8367
E-mail:
tomo.nakamura@jp.fujitsu.com
副委員長：古澤 健志 (株)ルネサステクノロジ
TEL:
029-270-2181
E-mail:
furusawa.takeshi@renesas.com
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IEEE
EDS Japan Chapter連絡先:Secretary 田中 徹
E-mail:ttanaka@ieee.org
Home
page:http://www.ieee-jp.org/section/tokyo/chapter/ED-15/
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