2006IEDM報告会プログラム

開催日:

平成１９年１月２６日、１４時３０分〜１６時２０分

会場:

大阪大学中之島センタ

公用語:

日本語

会費:

無料(事前登録不要)、IEEE会員以外も参加可

[14:30-14:35]

開会の挨拶 (5分)

西村　正(ルネサス・テクノロジ)

[14:35-15:05]

1: シリコンデバイス技術関連報告

山下 朋弘(ルネサス・テクノロジ)

[15:05-15:35]

2: シリコンプロセス技術関連報告

由上 二郎(ルネサス・テクノロジ)

-----休憩 （10分）-------

[15:45-16:15]

3: 化合物半導体デバイス技術関連報告

上本康裕(松下電器産業（株）半導体社)

[16:15-16:20]

閉会の挨拶 (5分)

大村泰久(関西大学)

なお、「2006IEDM報告会」終了後、EDS Kansai Chapter 総会を開催します